您好!
目前模拟为周期性的结构,最终想实现入射光为斜入射,然后观察经过非线性克尔介质后反射的反射光的频谱。现在不理解的是当介质垂直入射时候观察其反射光有了非物理杂光出现。当改变z方向大小和光源位置时,检测到的时域脉冲图没有改变(说明跟上下边界的反射无关?)。图2是不同检测位置(从1-5检测点逐渐远离非线性克尔介质,即z轴高度加大)的时域图。
1)那我应该改变什么参数来消除这部分的杂散光呢?
2)为了区分入射光,反射光,还有这个不必要的杂散光,加大了FDTD的z轴方向的空间距离,现在计算时间为48小时,有办法可以缩小计算空间大小来减小计算时间么?
谢谢!