Purcell factor 계산할 때 dipole source 위치에 관하여

purcell factor 시뮬레이션 시 dipole source 위치에 관하여 질문드립니다.

purcell factor example 항목을 읽어보니 dipole source가 lossless한 dieletric medium 안에 위치해야하고 (the dipolepower command only works if your dipole is in a lossless dielectric medium) example 파일도 열어보니 두 Ag film 사이에 SiO2(dielectric)이 있고 이 SiO2안에 dipole source가 위치해있는 것을 확인했습니다.

제가 원하는 시뮬레이션은 이와 반대인 두 dielectric film 사이에 metal film이 끼워져있는 (AlOH3/Au/AlOH3) 상태에서 Au 부분에 purcell factor가 얼마나 향상되는지를 보고싶은 상황입니다.

다만 위에서 언급했듯이 dipole source가 Au 안에 들어가게 되면 loss가 심해 purcell factor 계산이 안되는 것으로 보이는데 이런 상황에서 어떻게 Purcell factor를 계산할 수 있나요?

구조가 metal/dielectric/metal이든 dielectric/metal/dielectric 이든 관계없이 dipole 은 dielectric 층에 배치를 하고 시뮬레이션을 해 주면 됩니다.