從矽入射的時候,在反射monitor取|Ex|^2的值,會超過1


#1

老師您好,我想請問一下:

將一個光源為 x方向震盪的線偏振,入射到此結構(反射光會有部分x-pol轉換為y-pol),

目前遇到的問題是取|Ex|^2的結果會有超過1的結果(最大值約2.8),如下圖:

入射光的source設定如下:

目前有嘗試將入射的介質改為空氣(n=1)就會正常(最大值不會超過1),

但目前在"矽介質"入射的時候,|Ex|^2就會有大於1的現象(最大值約2.8)

謝謝老師!

x-pol-1.fsp (320.2 KB)


#2

由于结构有反射干涉和衍射,而E是各级衍射的总和,大于1是可能的,只要反射率不大于1。你可以看看有没有高级衍射。

但是,由于矽(硅)材料有吸收,因此,实际入射到这个结构(也就是材料/结构有变化的地方)的功率和电场应该比光源处的小,而且光从表面上反射到监视器也有吸收, 所以请考虑修正,或者避免这种情况。