Finite size of grating


#1

Hello:

我想模擬有限長度的光柵,預計光柵有20個重覆的pitch,想看光柵的邊緣對整個繞射情形的影響。

想請教以下的設置是否合裡:

我將FDTD的範圍拉寬超過光柵寬度,並將在x&y方向上的BC設為PML,然後將grating analysis group和frequency-domain field and power monitor的寬度設成跟FDTD的寬度相同。

想請問一下在這樣的環境條件下,要觀察遠場繞射,是不是應該使用monitor的far field projection而非analysis group,因為這樣已經不屬於periodic structure了?
而且,我也將monitor的far field setting裡的 assume periodic structure關掉了:

想請問這樣的設置是否合裡呢?

附上模擬的檔案:sonar grating_1573nm.fsp (732.2 KB)
謝謝!!


#2

对的,此时应该不能使用grating analysis group,而应该使用monitor的far field projection。
但是,文件仍有问题:
1:由于不是周期结构,你就不能使用一般的平面波(PML截断它产生衍射);最好是高斯光束;
2:仿真的宽度要比现在的宽,如果用高斯光束,不能截断高斯光的分布;而且尽量保证光栅部分的照明要均匀。

你再试一下。


#3

謝謝孫老師!
實驗跟模擬有很高的吻合度
這軟體的仿真能力很令人佩服!
Thanks a lot!!


#4

请问,这里说的 “仿真的宽度要比现在的宽,如果用高斯光束,不能截断高斯光的分布;而且尽量保证光栅部分的照明要均匀”
1、“仿真宽度要比现在的宽”,是指把FDTD区域横向拉大吗?
2、“不能截断高斯光的分布” 是指 横向的PML 不能截断高斯光束的灰色区域吗?
3、“尽量保证光栅部分的照明要均匀” 使用高斯光束同时照明均匀该怎么理解,是灰色区域刚好覆盖光栅区域,而且不被PML截断吗?


#5

你好,能否介绍一下如何修改的模型呢?或者上传一份修改后的模型学习一下呢?


#6

A1:是的,因为要用高斯光照明,其光强不均匀,为了使照射到光栅部分的光相对均匀,需要更宽的仿真区和光源束腰宽度。
A2:是指横向。
A3:

中间高斯形状部分是强度的空间分布;直线部分是光源的注入区,仿真区不能太小否则将光源截断产生衍射:


#7

Hi Junyu,

在這討論區收穫良多,有幸能夠回饋版上~
基本上,就是照著孫老師的建議修改的,老師的回覆也挺詳細
sonar grating_1573nm.fsp (438.7 KB)


#8

感谢,已经学习了你的模型:grinning: