在device里如仿真schottky contact,或者schottky diode?


#1

请问如何在device里能仿真基于 metal/semiconductor 的肖特基结,或者肖特基diode吗?还有能不能coupling 基于light-metal interaction 产生hot electron 的相关模型?谢谢


Msm 金属半导体形成肖特基接触
#2

应该是可以的。
后者我尚没有见到例子,经确认,目前我们软件不考虑此特性。


#3

您好请问:
我有一个简单的模型,top contact/silicon/rough surface back contact。 我想仿真在这个rough surface 和 silicon的interface 上 current flux 的分布和电流流动情况, 然后画出 J flux density vs position 的spatial map。 请问如何设置程序。我尝试用 current flux monitor 去plot,但是得到的总是1个point (对应电压的电流值。)

谢谢
期待您的解答


#4

记录的是
实际上是电流,参见知识库说明

要得到电流密度,需要从仿真区里提取。


#5

您好:

我試著去仿真Schottky contact (金屬和半導體構成的結), 並量測其band structure (紅點部分),

  1. 似乎bandstructure監視器不會看到金屬部分的能帶? 只看得到Schottky結半導體部分的能帶
  2. 為什麼能帶都是水平線?? 應該會看到半導體部分有能帶彎曲才是?

感謝~!!!


#6

我测试这个例子, 原文件在这里https://kb.lumerical.com/en/photodetectors_inp_uni_travelling_carrier_pd.html
结果


当修改为不是Ohmic后,结果是这样:

到金属就没有了,因为金属只用到其功函数,并不参与网格化计算。我估计是不能显示金属里面的(没有网格),但是半导体里面的是可以看到的。

但是到底是不是Schottky,你需要自己判断。
请检查你的设置。


#7

太棒了! 仿真問題可以解決了!

感謝!