DEVICE: laser 구조에 2D 시물레이션 문제로 질문드립니다. (error: process exited without calling finalize)


#1

안녕하세요. lumerical을 사용하는 user입니다.

DEVICE Charge Transport Solver 2D 시뮬레이션 오류에 대하여 질문있습니다. 아래 첨부된 파일 구조와 같이, 양쪽에 있는 전극을 통해 carrier를 주입하는 구조입니다.
grating에 얇은 판을 추가하지 않은 2D 구조에서는 오류 없이 결과값 (I-V그래프)을 잘 얻을 수 있었습니다.
하지만, Device의 저항을 낮추기 위해서, 양쪽 grating에 mesh order를 고려하여(grating보다 우선순위가 높게 설정함) 얇은 판(20nm)을 총 24개 겹쳐서 넣어주었을 경우 아래 그림과 같은 에러가 발생하였습니다.
grating, cavity, electrode가 모두 고정된 아래 구조에서 도핑, 얇은 판의 두께(20~200nm), 얇은 판의 개수에 따른 V-I그래프를 얻고 싶으나, 아래와 같은 오류가 지속적으로 발생하여, 얻지 못하고 있습니다.
어떻게 이 오류를 해결 할 수 있을까요?

EGL_originer_mod.ldev (7.1 MB)


#2

안녕하세요.

이 시뮬레이션에서 발생하는 오류는 아래의 게시물에서 다루어진 오류와 기본적으로 그 성격이 비슷합니다. 즉, 다루는 구조물이 다소 복잡해서 발생하는 문제라고 볼 수 있습니다. grating 구조물만을 포함하거나 ‘plate’ 만을 포함시켜 시뮬레이션을 하면 별문제가 없이 진행이 되지만, 이 둘을 동시에 포함시키면 전체 구조가 더 복잡해져서 mesh 를 생성하는데 어려움이 발생하게 됩니다.

이전 게시물에서 언급된 바와 같이 grating 이 있는 영역에는 doping level 이 높아서 전체적으로 potential 의 변화가 적은데, 이 부분에 ‘plate’ 구조를 넣어서 이미 저항값이 작은 영역의 저항을 조금더 줄여준다고하여 전체의 저항을 얼마나 더 낮추어 줄 수 있을 지는 의문입니다. 전체 저항값을 줄여주려면 channel 영역의 저항을 줄여주도록 어떤 변화를 주는 것이 적절하지 않을까 생각합니다.

즉, 크게 결과에 영향을 주지 않는 복잡한 구조물은 가능하다면 무시를 하고 시뮬레이션을 간소화해줄 필요가 있어 보입니다.